第56章 不是？我江城六中要报李东的号？ （2/3）

闻言，老周愣了一下。

不是你早说你是带李东来的呀，说什么学生学术成果后续，你六中这次的学生有个屁的学术后续呀。

虽然心里在腹诽，但是却是不动声色的点了点头。

“哦是这样呀，陈老师……”

老周看似随意的补充道。

“林总监今天上午应该来考场这边一趟！到时候我给他说一声吧。”

陈老见老周这态度，也是心中一阵无语，我江城六中没面子？还要报李东的号？

不过好像是真的没李东有面子，至少现在是。

“那就麻烦周主任了。”

……

此时此刻，考场内。

只剩下最后四十分钟了。

李东坐在座位上，看着试卷的最后一页，眼神很复杂。

他一直觉得自己为了改变命运，在群里披着马甲薅那些科学巨匠的羊毛，已经算是挺不要脸的行为了。

但是，今天看了华轩科技出的这道压轴题，李东才知道，什么叫“资本的厚颜无耻”！

【某半导体设备企业正在研发 28nm工艺节点量产型浸没式光刻系统，核心要采用 193nm ArF准分子激光光源，局部浸没式成像架构，在投影物镜最后一片镜片与晶圆表面之间，填充折射率 n=的超纯水作为成像介质，以提升系统分辨率和成像精度。

系统工作时，晶圆台以匀速直线扫描完成整片晶圆曝光，曝光激光的能量会在浸没液中产生局部瞬态温升，进而引发成像误差。】

某半导体企业？到底是哪个半导体企业呢？好难猜呀。

看完这个背景，再看问题。

李东的眼角都开始抽搐了。

【请你设计一套配套的成像误差实时补偿方案，需同时满足以下所有硬性指标：

补偿精度：可将浸没介质折射率波动带来的曝光线宽误差，控制在±以内；

响应速度：补偿延迟≤1ms，可适配晶圆台≥1200mm/s的匀速扫描速度；

抗干扰能力：补偿效果不受浸没液瞬态温度波动、流速扰动、溶解气体含量变化的影响；

结构约束：方案不得改动现有曝光光学系统的核心结构与参数，不得改变浸没介质的成分与基础物性，无任何与晶圆表面直接接触的部件。

量产要求：方案核心部件可标准化批量生产，单套系统物料成本≤100万元人民币。】

“呵呵。”

这题如果是说人话的话就是：

我们国威装备现在在搞浸没式光刻机。

然后遇到点小问题。

水被激光加热以后，什么折射率变了呀，什么光路歪了呀，所以良品率崩了。

我们呢，是养一大帮百万年薪的顶尖光学博士和流体力学专家。

但是！他们好像不太会。

所以，我们就想让你们这群连大学校门都没进的高中生，来试试能不能用不超过一百万块钱的成本，帮我把这个问题给秒了？

“好不要脸！”